Gasselektive Membranen
Membranprozesse werden sehr oft für die Trennung von niedermolekularen Gasen, wie Helium (He) oder Wasserstoff (H2), eingesetzt. Die am IMM entwickelten Quarz- und Palladium-Dünnschicht-Membranen verwenden ein Siliziumnetz als mechanische Stabilisierung, so dass ein genügend hoher Widerstand gegenüber hohen Drücken bei gleichzeitig hoher Permeabilität von Helium oder Wasserstoff gewährleistet werden kann. Derzeit werden die Membranen für Anwendungen in der Gassensorik genutzt. Sie können ebenso für miniaturisierte Reformereinheiten und Brennstoffzellen eingesetzt werden. Die Geometrie und Membranparameter können kundespezifischen Wünschen angepasst werden.
Quarzmembran:
Durchlässigkeit für He: 1.0 * 10-6 mbar ls-1
Druckstabilität: >1 bar
Platinheizmeander
Chipgröße: 23 × 50 mm2
Fläche der aktiven Membran: 150 mm2
Unterstützungsstruktur: Si Träger mit 4895 Löchern
Verwendete Technologien: Oxidation, Vorder- und Rückseiten-Lithographie, Sputtern
Die Entwicklung wurde für Inficon GmbH, Köln, Deutschland durchgeführt. Derzeit werden die Membranen am IMM für den Einsatz im neuen Inficon Protec P 3000 Leckdetektor hergestellt.
Palladium-Membran:
Durchlässigkeit für H2: 1.0 * 10-0 mbar ls-1
(für 300°C)
Druckstabilität: >3 bar
Legierung mit Silber und Kupfer möglich
Ein zusätzlicher Einsatz eines Heizmeanders ist möglich
Chipgröße 23 × 50 mm2
Aktive Membranfläche: 175 mm2
Unterstützungsstruktur: Si-Träger mit 4895 Löchern
Entwicklung durchgeführt in Zusammenarbeit mit der Inficon GmbH, Köln, Deutschland, und der Technischen Universität Kaiserslautern.
Kontakt: Stefan Schmitt, Abteilung Mikrostrukturierung und Sensorik,
Tel.: +49 6131/990 326




